光亮度超好,整平性和走位能力佳,在低电区也有较好的整平和光亮度;镀层内应力小、且耐腐蚀性好。适用于铜层打底。
| 名 称 | 工艺范围 | 建议用量 |
|---|---|---|
| 硫酸铜(纯度越高越好) | 180~240 g/L | 220 g/L |
| 硫酸(至少CP级) | 50~70 g/L | 60 g/L |
| 氯离子 | 40~100 mg/L | 60 mg/L |
| CU-701开缸剂C | 4~6mL/L | 5 mL/L |
| CU-701A剂 | 0.3~0.6mL/L | 0.5 mL/L |
| CU-701B剂 | 0.3~0.6mL/L | 0.5 mL/L |
| 温 度 | 20~30℃ | 25℃ |
| 阴极DK(电流密度) | 1.5~6.0A/dm2 | 1.5~6.0A/dm2 |
| 阳极DK(电流密度) | 0.5~2.5A/dm2 | 0.5~2.5A/dm2 |
| 阳 极 | 0.03~0.06%磷铜板 | 0.03~0.06%磷铜板 |
| 空气搅拌、循环过滤 | 需 要 | 需 要 |
参数为典型参考值,实际以基材与现场条件为准;可先取样验证再定槽。